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產品詳細

高分辨率掃描透射電子顯微鏡成像

HAADF-STEM圖像0.136 nm,FFT圖像0.105 nm(高分辨率鏡頭*)

HAADF-STEM圖像0.144 nm(標準鏡頭)

明場掃描透射電子顯微鏡圖像0.204 nm(w/o球差校正儀)


高速,高靈敏度能譜分析:探針電流×10倍

元素面分布更迅速及時

低濃度元素檢測


操作簡化

自動圖像對中功能


從樣品制備到觀察分析實現無縫連接

樣品桿與日立聚焦離子束系統兼容


配有各種選購件可執行各種評估和分析操作

同時獲取和顯示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布*和DF/EELS面分布*圖像。

低劑量功能*(使樣品的損傷和污染程度降至最低)

高精度放大校準和測量*

實時衍射單元*(同時觀察暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像和衍射圖案)

采用三維微型柱旋轉樣品桿(360度旋轉)*,具有自動傾斜圖像獲取功能。

ELV-3000即時元素面分布系統*(同時獲取暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像)


* :選購件


HD-2700球差校正掃描式透射電子顯微鏡


項目 描述
圖像分辨率 w/o球差校正儀 保證 0.204 nm(當放大倍數為4,000,000時)
w球差校正儀 保證 0.144 nm(當放大倍數為7,000,000時)(標準鏡頭)
保證 0.136 nm(HAADF圖像)
保證 0.105 nm(通過FFT)(當放大倍數為7,000,000時)(高分辨率鏡頭*)
放大倍數 100倍 至 10,000,000倍
加速電壓 200 kV, 120 kV *
成像信號 明場掃描透射電子顯微鏡:相襯圖像(TE圖像)
暗場掃描透射電子顯微鏡:原子序數襯度圖像(Z襯度圖像)
二次電子圖像(SE圖像)
電子衍射*
特征X射線分析和面分布(能譜分析)*
電子能量損失譜分析和面分布(EV3000)*
電子光學系統 電子源 肖特基發射電子源
冷場致發射器*
照明透鏡系統 2-段聚光鏡鏡頭
球差校正儀* 六極鏡頭設計
掃描線圈 2-段式電磁感應線圈
原子序數襯度收集角控制 投影鏡設計
電磁圖像位移 ±1 μm
試片鏡臺 樣品移動 X/Y軸 = ±1 mm, Z軸 = ±0.4 mm
樣品傾斜 單軸-傾斜樣品桿:±30°(標準鏡頭), ±18°(高分辨率鏡頭*)
真空系統   3個離子泵,1個TMP
極限真空 10-8 Pa(電子槍), 10-5 Pa(樣品室)
圖像顯示 個人電腦/操作系統 PC/AT兼容, Windows® XP
監視器 19-inch液晶顯示器面板
圖像幀尺寸 640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素
掃描速度 快掃,慢掃(0.5至320秒/幀)
自動數據顯示 記錄序號,加速電壓,下標尺,日期,時間


*選購件